厚膜烧结炉在厚膜工艺中的应用
厚膜烧结炉在厚膜工艺中的应用
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厚膜烧结炉在厚膜工艺中的应用

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  而混合集成电路又可分为两种,一种是薄膜混合集成电路,膜层厚度1μm左右它是应用真空喷射法的薄膜技术制造。另一种是厚膜集成电路,膜层厚度10~25μm

  厚膜烧结炉是一种用于厚膜烧结过程的专用设备。在电子元件制作的完整过程中,厚膜烧结炉扮演着重要的角色,用于将印刷浆料后的基片烘干、烧结,使浆料与基片间形成良好的熔合和网络互连,再经过测试、封装等工序后成为电子元器件。

  国内主要的厚膜烧结炉生产厂商,如合肥泰络装备生产的烧结炉设备,性能优异、市场占有率高,已可完全替代国外进口设备。

  设备主要由炉体、传动系统、加热装置、控温系统、气氛启动和废气处理系统等部分所组成。炉体一般会用耐火保温材料制造成(如硅酸铝陶瓷纤维),可承受高温环境下的热膨胀和热应力,同时减少与环境的热交换,节能环保。传动系统通常为不锈钢金属网带传动,可实现大规模量产。加热装置一般都会采用电加热方式,通过电阻丝加热将炉体内的温度上升到烧结所需的温度。控温系统用于控制炉体的温度,在烧结过程中保持恒定的温度。气氛系统可保证炉膛内气氛场按设定方式流动,同时有助于温度场的均匀性。废气处理系统则负责处理烧结过程中产生的废气,以达到环保要求。

  厚膜烧结炉的烧结过程大致上可以分为三个阶段:升温(排胶)、高温平台保温(烧结)和冷却。在升温阶段,加热元件将炉体内的温度逐渐升高到烧结温度。在高温平台保温阶段,控温系统维持炉体的温度在烧结温度附近,并保持一定的时间,以确保浆料充分烧结。在冷却阶段,通过自然冷却、风冷和/或水冷的方式,炉体内的温度逐渐降低,直到达到合适的出料温度。

  在烧结过程中,厚膜材料发生物理和化学变化,形成致密的结构。烧结温度、保温时间和烧结气氛等因素对烧结效果有重要影响。烧结温度过高会导致电阻材料结构糊化,影响电阻器件的性能;烧结温度过低则无法充分烧结,电阻值不稳定。保温时间过短会导致电阻材料未完全烧结,保温时间过长则会造成电阻材料烧结过度。烧结气氛根据浆料的类型,通常选择空气。有些则需使用惰性气体,如氮气或氩气,如铜浆料,以避免与氧气发生反应。

  厚膜烧结炉在电子元件制造中具备极其重大的应用价值。厚膜器件大范围的应用于电子科技类产品中,如通信设施、计算机、汽车电子、小家电等产品和行业。通过优化烧结工艺和控制烧结参数,能够得到高质量的厚膜器件,提高电子科技类产品的性能和可靠性。通过一直在优化烧结工艺和控制烧结参数,能更加进一步提升厚膜器件的质量和性能。

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